ISO 17331:2004
2004-05
Indisponible en français
Résumé
ISO 17331:2004 specifies chemical methods for the collection of iron and/or nickel from the surface of silicon-wafer working reference materials by the vapour-phase decomposition method or the direct acid droplet decomposition method.
It applies to iron and/or nickel atomic surface densities from 6 times 10 to the power 9 atoms per square centimetre to 5 times 10 to the power 11 atoms per square centimetre.
Informations générales
-
État actuel: PubliéeDate de publication: 2004-05Stade: Norme internationale confirmée [90.93]
-
Edition: 1
-
Comité technique :ISO/TC 201ICS :71.040.40
- RSS mises à jour
Amendements
Des amendements sont publiés lorsqu’il s’avère que de nouveaux éléments doivent être ajoutés à un document normatif existant. Ils peuvent également inclure des corrections d’ordre rédactionnel ou technique à appliquer au document en vigueur.
Amendement 1
Edition 2010
Cycle de vie
-
Actuellement
-
00
Préliminaire
-
10
Proposition
-
20
Préparation
-
30
Comité
-
40
Enquête
-
50
Approbation
-
60
Publication
-
90
Examen
-
95
Annulation
Amendements
Proposent un contenu additionnel; Disponibles à l’achat; Non inclus dans le texte de la norme en vigueur.PubliéeISO 17331:2004/Amd 1:2010
-
00
Vous avez une question?
Consulter notre FAQ
Horaires d’ouverture:
De lundi à vendredi - 09:00-12:00, 14:00-17:00 (UTC+1)