ISO 22415:2019
p
ISO 22415:2019
73135
недоступно на русском языке

Текущий статус : Опубликовано

ru
Формат Язык
std 1 151 PDF + ePub
std 2 151 Бумажный
  • CHF151
Пересчитать швейцарские франки (CHF) в ваша валюта

Тезис

This document specifies a method for measuring and reporting argon cluster sputtering yield volumes of a specific organic material. The method requires one or more test samples of the specified material as a thin, uniform film of known thickness between 50 and 1 000 nanometres on a flat substrate which has a different chemical composition to the specified material. This document is applicable to test samples in which the specified material layer has homogeneous composition in depth and is not applicable if the depth distribution of compounds in the specified material is inhomogeneous. This document is applicable to instruments in which the sputtering ion beam irradiates the sample using a raster to ensure a constant ion dose over the analysis area.

Preview 

Вы можете ознакомиться с данным стандартом в нашей онлайн-библиотеке (OBP)

Общая информация

  •  : Опубликовано
     : 2019-05
    : Опубликование международного стандарта [60.60]
  •  : 1
  • ISO/TC 201/SC 6
    71.040.40 
  • RSS обновления

Жизненный цикл

Цели в области устойчивого развития

Данный стандарт разработан для достижения следующих Цель устойчивого развития

Появились вопросы?

Ознакомьтесь с FAQ

Работа с клиентами
+41 22 749 08 88

Часы работы:
Понедельник – пятница: 09:00-12:00, 14:00-17:00 (UTC+1)